恒旭伙伴｜恒旭资本布局微纳光刻赛道，玉之泉完成数亿元Pre-B轮融资
2026-08-31
近日，杭州玉之泉精密仪器有限公司完成数亿元Pre-B轮融资。本轮由深创投、建投投资联合领投，恒旭资本作为新进股东参与投资，佰彦基金、中芯科技（宁波）基金、金华创投、硅港资本等机构跟投，并引入国家创业投资引导基金区域子基金——粤港澳大湾区创业投资引导基金。
玉之泉源自浙江大学三十余年微纳光刻技术积淀，是国内直写光刻装备领域的核心企业之一。本轮融资是玉之泉发展历程中的重要战略里程碑，标志着公司获得国家级基金与产业龙头的全维度认可与支持，正式迈入技术规模化落地、业务高速扩张的全新阶段。
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为什么是微纳光刻：一条被长期低估的关键赛道
提及光刻，公众目光往往聚焦于晶圆厂中动辄数亿欧元的大型投影式光刻机。但在半导体产业链的更上游，还有一类同样不可或缺的装备——直写光刻设备。它无需掩膜版，通过计算机控制光束直接在基材上扫描曝光，广泛应用于芯片设计验证、高端掩膜版制造、MEMS传感器、先进封装、光子芯片、超表面光学元件等场景。
（图片来源：玉之泉官网）
在AI芯片、硅光互连、AR/VR光学、量子器件等新兴需求的驱动下，直写光刻正从"科研辅助工具"加速走向"产业核心装备"。然而，这条赛道长期被德国Nanoscribe、日本NuFlare等海外厂商主导。设备价格高昂、交付周期长、核心工艺不开放，成为国内科研与高端制造面前的又一道隐形壁垒。玉之泉的出现，正是对这一格局的正面回应。
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技术壁垒：从50纳米精度到万通道并行制造
玉之泉的核心竞争力，建立在全栈自主的技术体系之上。
精度层面，其MPD系列双光子三维激光直写光刻系统搭载自研边缘光抑制（PPI）技术，可将刻写线宽从行业普遍的150纳米以上稳定压缩至50纳米以内，极限线宽达40纳米级，迈入国际第一梯队。双光子聚合技术利用非线性光学效应突破衍射极限，可制备传统平面工艺无法实现的悬空、曲面、多孔结构。
（图片来源：玉之泉官网）
通量层面，玉之泉联合浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室，创新性地提出"万通道快速独立调控方案"，可瞬间生成1万多个可独立控制的并行激光焦点，每个焦点能量支持169阶以上精细调节。2026年7月，双方联合研发的"万通道3D纳米激光直写光刻机"正式上市。这一全球首发、国际领先的微纳制造利器，标志着我国在高精度高通量光刻装置领域迈上新台阶，更为高端掩膜版、光子芯片及超表面等半导体与微纳制造关键领域，提供了不可或缺的底层技术支撑。
体系层面，玉之泉构建了从核心光学设计、运动控制平台到加工软件、配套光刻胶的全链路自主可控体系。产品已形成MPD（双光子三维激光直写光刻）、FSD（飞秒激光微纳加工）、UVD（数字投影无掩膜光刻）、AOD（紫外激光直写光刻）、VOP（生物体打印光刻）五大产品系列及全品类微纳加工服务，覆盖科研、工程验证到产业化应用的全场景。
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产业空间：多精度等级、多应用场景的全谱系光刻设备矩阵
目前公司已形成覆盖多精度等级、多应用场景的全谱系光刻设备矩阵，产品广泛应用于半导体、光通信、光纤传感、量子科技、核聚变、组织再生等百余个高科技领域，全面覆盖从前沿科研到工业量产的多元需求。同时，玉之泉配套开放专业微纳加工服务，降低高端制造技术的应用门槛，以技术普惠赋能全产业创新，持续为中国高端制造自主可控注入硬核动力。
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恒旭观点
在恒旭资本看来，玉之泉从打破技术垄断到赋能传统产业升级再到支撑未来产业的发展，始终与光刻技术的国产替代浪潮同频共振。玉之泉所代表的，不仅是一家设备公司的成长，更是国内科研与产业界在微观尺度上逐步建立自主能力的缩影。从实验室里的技术原型，到客户端的批量交付，这条路上每一步的扎实推进，都在为下游更多创新应用打开可能性。恒旭资本愿意在这样的方向上，与企业保持长期同行。未来，恒旭资本将持续关注玉之泉的技术与业务进展，并在产业资源对接方面保持开放沟通。
